無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng)為太陽能/光伏硅片及其他材料提供快速、多通道的厚度、(總厚度變化)TTV、翹曲及無接觸電阻率測量功能。并提供基于TCP/IP的數(shù)據(jù)傳輸接口及基于Windows的控制軟件,用以進行在線及離線數(shù)據(jù)管理功能。。
無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng) - 產品特點
■ 使用MTI Instruments獨有的推/拉電容探針技術
■ 每套系統(tǒng)提供最多三個測量通道
■ 可進行最大、最小、平均厚度測量和TTV測量
■ 可進行翹曲度測量(需要3探頭)
■ 用激光傳感器進行線鋸方向和深度監(jiān)視(可選)
■ 集成數(shù)據(jù)采集和電氣控制系統(tǒng)
■ 為工廠測量提供快速以太網通訊接口,速率為每秒5片
■ 可增加的直線厚度掃描數(shù)量
■ 與現(xiàn)有的硅片處理設備有數(shù)字I/O接口
■ 基于Windows的控制軟件提供離線和在線的數(shù)據(jù)監(jiān)控
■ 提供標準及客戶定制的探頭
■ 提供基于Windows的動態(tài)鏈接庫用于與控制電腦集成
■ 用渦電流法測量硅片電阻率
無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng) - 技術指標
■ 晶圓硅片測試尺寸:50mm- 300mm.
■ 厚度測試范圍:1.7mm,可擴展到2.5mm.
■ 測厚度測試精度:+/-0.25um
■ 厚度重復性精度:0.050um
■ 測量點直徑:8mm
■ TTV 測試精度: +/-0.05um
■ TTV重復性精度: 0.050um
■ 彎曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]
■ 彎曲度測試精度: +/-2.0um
■ 彎曲度重復性精度: 0.750um
■ 電阻率測量范圍:5-2000ohm/sq(0.1-40ohm-cm)
■ 電阻率測量精度:2%
■ 電阻率測量重復精度:1%
■ 晶圓硅片類型:單晶或多晶硅
■ 材料:Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有半導體材料
■ 可用在:切片后、磨片前、后,蝕刻,拋光以及出廠、入廠質量檢測等
■ 平面/缺口:所有的半導體標準平面或缺口
■ 硅片安裝:裸片,藍寶石/石英基底,黏膠帶
■ 連續(xù)5點測量
無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng) - 應用范圍
■ 切片
■ 線鋸設置
■ 厚度
■ 總厚度變化TTV
■ 監(jiān)測:導線槽、刀片更換
■ TTV重復性精度: 0.050um
■ 磨片/刻蝕和拋光
■ 過程監(jiān)控
■ 總厚度變化TTV
■ 材料去除率
■ 彎曲度
■ 翹曲度
■ 平整度
■ 研磨
■ 材料去除率
■ 最終檢測
■ 硅抽檢或全檢
■ 終檢厚度
無接觸硅片厚度TTV電阻率綜合測試系統(tǒng) - 典型客戶
美國,歐洲,亞洲及國內太陽能及半導體客戶。